镀膜靶材

镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。随着材料表面技术的飞速发展，各种镀膜靶材的市场需求量不断增长，同时，某些高端领域所需的高质量薄膜又对相应靶材的技术指标提出了更高的要求靶材种类
—纯金属靶材
      铬、钛、镍、钨、钼
      Cr、Ti、Ni、W 、Mo
      其中铬靶是用先进的热等静压（HIP）工艺生产而成，靶材致密度高（密度＞7.17g/cm3），成分均匀，晶粒细小，使用寿命长。铬靶纯度从99.5%～99.95%。

合金靶材
      钛铝、铬铝、铬钨、铬硅、铬钛、铬矾、锌锡、镍铬、镍铁、钴铁、钨钛、
      钴铬钽、钴铌锆、镍铬铁、镍铬铝铱、钴铬铝铱、铁铬铝铱
      TiAl、CrAl、CrW、 CrSi、CrTi、CrV、 ZnSn、NiCr、NiFe、CoFe、WTi、 
      CoCrTa、CoNbZr、NiCrFe、NiCrAlY、 CoCrAlY、 FeCrAlY
      其中钛铝、铬铝、钨钛合金靶等是用先进的热等静压（HIP）工艺生产而成，纯度从99.5%～99.9%，靶材致密度高，无气孔和疏松，组织均匀，晶粒细小，使用寿命长。

贵金属靶材
    银
    Ag
靶材形状和尺寸
平面靶
      圆状靶：最大直径500mm
      板状靶：最大长度780mm
                  最大宽度400mm